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Tesis Doctoral
DOI
10.11606/T.3.2012.tde-19092012-170421
Documento
Autor
Nombre completo
Daniel Orquiza de Carvalho
Dirección Electrónica
Instituto/Escuela/Facultad
Área de Conocimiento
Fecha de Defensa
Publicación
São Paulo, 2012
Director
Tribunal
Alayo Chávez, Marco Isaías (Presidente)
Dantas, Michel Oliveira da Silva
Onmori, Roberto Koji
Santos, Josemir Coelho
Wetter, Niklaus Ursus
Título en portugués
Desenvolvimento de processos de fabricação de dispositivos óptico integrados em tecnologia de silício para aplicação em sensoriamento.
Palabras clave en portugués
Fotônica
Guias-ondas
Sensores ópticos
Tecnologia de microeletrônica
Resumen en portugués
Os objetivos desta tese são: o estudo e aprimoramento dos diferentes parâmetros geométricos e de processo de fabricação de guias de onda ARROW (Anti-Resonant Reflecting Optical Waveguides), visando reduzir as perdas por propagação; e o projeto, fabricação e caracterização de sensores óptico integrados utilizando os processos aprimorados. Os parâmetros estudados foram: os materiais utilizados nas camadas antirresonantes, as espessuras destas camadas, a profundidade de corrosão para definição do rib e a rugosidade nas paredes laterais, que considera-se o parâmetro mais crítico no que diz respeito às perdas por propagação obtidas com o processo de fabricação utilizado neste trabalho. Os materiais utilizados na fabricação dos guias de onda ARROW sobre substrato de silício foram filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) depositados por PECVD à temperatura de 320°C, filmes de SiO2 crescidos em forno de oxidação em ambiente úmido a 1200°C e filmes de TiOxNy depositados pela técnica de Magnetron Sputtering Reativo. A definição das paredes laterais dessas estruturas foi feita através da Corrosão por Plasma Reativo (RIE) e técnicas fotolitográficas convencionais. Para o aprimoramento dos processos, as técnicas de caracterização utilizadas foram: medidas de perdas por propagação, utilizando a técnica de vista superior e a análise modal dos guias de onda. A principal contribuição deste trabalho foi a proposição de um processo de fabricação alternativo, onde pedestais são utilizados para a definição das paredes laterais antes da deposição do núcleo dos guias de onda. Este processo permitiu a redução significativa das perdas e o corte dos modos superiores para guias com larguras menores ou iguais a 6 µm. Finalmente, com os guias e os processos aperfeiçoados foram fabricados dois diferentes tipos de sensores ópticos: sensores refratométricos baseados em interferômetro de Mach-Zehnder (IMZ) e sensores de umidade baseados em absorção utilizando o polímero polipirrol (PPy). A caracterização dos sensores baseados em IMZ permitiu concluir que, embora se tenha observado uma resposta do sensor em termos de variação da potência na saída do dispositivo com a variação do índice de refração, esta variação possivelmente está sendo influenciada pela interferência multimodo resultante de limitações do processo de fabricação, o que reduz significativamente a sensibilidade com relação a valores projetados. Os sensores de umidade apresentaram uma variação significativa da potência de saída para umidades relativas ao redor de 70%, permitindo sua utilização em diferentes aplicações, como na indústria alimentícia e no monitoramento da qualidade do ar.
Título en inglés
Development of integrated optic devices fabrication process in silicon technology for sensing applications.
Palabras clave en inglés
Arrow waveguides
Microelectronics processes
Optical sensors
Photonics
Resumen en inglés
The main goals of this thesis are: the study and improvement of different geometrical and fabrication process parameters of Anti-Resonant Reflecting Optical Waveguides (ARROWs), aiming at reducing the propagation losses; and the design, fabrication and characterization of integrated optics sensors using the improved processes. The studied parameters were: the materials used as anti-resonant layers, the thickness of these layers, the rib height and the sidewall roughness (SWR), which is considered the most critical parameter with respect to propagation losses in the fabrication process used in this work. The materials used in the fabrication of ARROW waveguides over silicon substrate were silicon oxynitride (SiOxNy) films deposited by PECVD at 320°C, SiO2 films, thermally grown at 1200°C and TiOxNy films deposited by the reactive magnetron sputtering technique. The definition of the sidewalls of these waveguides was performed by Reactive Ion Etching (RIE) and conventional photolithographic techniques. The characterization techniques used were: propagation loss measurements, using the top view technique and modal analysis. The main contribution of this work was the proposition of an alternative fabrication process where pedestals are used in order to define the sidewalls before deposition of the core of the ARROW waveguides. This process allowed significant reduction of losses and cutoff of higher modes at widths of 6 µm. Finally, with the waveguides and improved processes two different types of optical sensors were fabricated: refractometric sensors based on Mach-Zehnder interferometer (IMZ) and humidity sensors based on evanescent field absorption using polypyrrole polymer (PPy). The characterization results of IMZ based sensors showed that, although a sensor response has been observed in terms of change of output power with variation of the external medium's refractive index, this variation is possibly being influenced by multimode interference resulting from limitations in the fabrication process. This significantly reduces the sensitivity with respect to designed values. The humidity sensors show a significant variation in output power for relative humidity values around 70%, allowing its use in different applications, such as in food industry and in air quality monitoring.
 
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Este documento es únicamente para usos privados enmarcados en actividades de investigación y docencia. No se autoriza su reproducción con finalidades de lucro. Esta reserva de derechos afecta tanto los datos del documento como a sus contenidos. En la utilización o cita de partes del documento es obligado indicar el nombre de la persona autora.
Fecha de Publicación
2012-09-25
 
ADVERTENCIA: El material descrito abajo se refiere a los trabajos derivados de esta tesis o disertación. El contenido de estos documentos es responsabilidad del autor de la tesis o disertación.
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  • Carvalho, D. O., Albertin, K. F., and Alayo, M. I. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [doi:10.1002/pssc.200982878]. Physica Status Solidi. C, Conferences and Critical Reviews [online], 2010, vol. 7, p. 960-963.
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  • Carvalho, D. O., et al. Towards integration of light sources and optical devices on a silicon substrate. In XV Congreso Internacional de Ingeniería Eléctrica, Electrónica y Sistemas - INTERCON 2008, Trujillo - Peru, 2008. Proceedings del 15th Congreso Internacional de Ingeniería Eléctrica, Electrónica y Sistemas - INTERCON 2008., 2008.
  • Carvalho, D. O., Albertin, K. F., and Alayo, M. I. Study of TiOx ARROW waveguides with improved geometries. In 23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors, Holanda, 2009. Proceeedings of the 23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors., 2009.
  • Carvalho, D. O., Albertin, K. F., and Alayo, M. I. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. In 23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors, Holanda, 2009. Proceedings of the 23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors., 2009.
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  • Carvalho, D. O., and Alayo, M. I. TiO2 Anti-resonant Layer ARROW Waveguide. In 23rd Symposium on Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2008, Gramado, RS, 2008. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2008.New Jersey : Electrochemical Society Transactions, 2008.
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