• JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
 
  Bookmark and Share
 
 
Mémoire de Maîtrise
DOI
10.11606/D.54.1985.tde-13022015-155857
Document
Auteur
Nom complet
Fernando Josepetti Fonseca
Unité de l'USP
Domain de Connaissance
Date de Soutenance
Editeur
São Carlos, 1985
Directeur
Jury
Campos, Milton Soares de (Président)
Alvarez, Fernando
Castro Neto, Jarbas Caiado de
Titre en portugais
Desenvolvimento de uma célula solar de silício para aplicações espaciais
Mots-clés en portugais
Não disponível
Resumé en portugais
Este trabalho teve como objetivo o desenvolvimento de um conjunto de processos para a fabricação de células solares de silício para utilização espacial, do tipo convencional. As células solares de silício monocristalino desenvolvidas neste trabalho possuem junção rasa, obtida por difusão de fósforo em substrato tipo-p (com resistividade de 1 ou 10 Ohm.cm), grades de contato de Ti/Pd/Ag e camada antirefletora de dióxido de titânio. Em células de 4cm2 foram obtidas eficiências de conversão de até 13,6% com fator de preenchimento de 0,77 em substratos de 1 Ohm.cm e 13% e 0,76 em substratos de 10 Ohm.cm. Células construídas com substratos de 10 Ohm.cm apresentaram melhor tolerância à danos de radiação que as de 1 Ohm.cm. São analisadas as influências da camada antirefletora, resistividade de substrato, geometria e técnicas de deposição da grade de contatos no desempenho elétrico das células
Titre en anglais
Not available
Mots-clés en anglais
Not available
Resumé en anglais
The objective of this work was the study and the development of techniques for the fabrication of silicon solar cells, of conventional type, for space applications. The single-crystal silicon solar cells were fabricated on p-type substrates of 1 and 10 Ohm.cm resistivities by thermal diffusion of phosphorus from liquid source. The anti-reflective coatings were made from titanium dioxide obtained by reactive sputtering of a titanium target. A triple titanium-palladium-silver layer was utilized to prepare the contacts. Conversion efficiencies of up to 13.6% and fill factors of 0.77 were obtained in cells fabricated on 1 Ohm.cm substrates and efficiencies of 13% and fill factor of 0.76 were obtained in cells fabricated in 10 Ohm.cm substrates. Better radiation damage tolerance was observed in cells with 10 Ohm.cm substrates when compared with 1 Ohm.cm substrate cells. The inf1uences of the anti-reflective coatings, substrate resistivities, and contact grid geometry and grid deposition techniques on cell performance are analyzed
 
AVERTISSEMENT - Regarde ce document est soumise à votre acceptation des conditions d'utilisation suivantes:
Ce document est uniquement à des fins privées pour la recherche et l'enseignement. Reproduction à des fins commerciales est interdite. Cette droits couvrent l'ensemble des données sur ce document ainsi que son contenu. Toute utilisation ou de copie de ce document, en totalité ou en partie, doit inclure le nom de l'auteur.
Date de Publication
2015-02-19
 
AVERTISSEMENT: Apprenez ce que sont des œvres dérivées cliquant ici.
Tous droits de la thèse/dissertation appartiennent aux auteurs
Centro de Informática de São Carlos
Bibliothèque Numérique de Thèses et Mémoires de l'USP. Copyright © 2001-2021. Tous droits réservés.